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上海測(cè)宇科學(xué)儀器科技有限公司

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薄膜分析

  X射線衍射對(duì)于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價(jià)值。采用精密的晶格參數(shù)的測(cè)量方法,可以很準(zhǔn)確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數(shù)匹配或不匹配是一個(gè)重要因素如磁泡存儲(chǔ)器的磁性石榴石薄膜,LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產(chǎn)品。對(duì)于薄膜X射線衍射的另一個(gè)應(yīng)用是使用高溫衍射通過測(cè)定晶格參數(shù)隨溫度的變化來確定熱膨脹系數(shù)。

系統(tǒng)

  • 搖擺曲線: SmartLab?, Ultima IV
  • 倒易空間圖測(cè)量: SmartLab?, Ultima IV
  • 膜厚測(cè)量,粗糙度,密度: SmartLab?, Ultima IV
  • 反射測(cè)量: SmartLab?, Ultima IV
  • In-plane晶體結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?, Ultima IV
  • In-plane衍射: SmartLab?, Ultima IV
  • 相分析,擇優(yōu)取向,畸變,殘余應(yīng)力: SmartLab?, Ultima IV
  • 極圖,薄膜衍射: SmartLab?, Ultima IV
  • 混合晶體成分比例,晶格畸變: SmartLab?
  • 外延層厚: SmartLab?
  • 超晶格的周期性結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?
  • 實(shí)驗(yàn)室XRR: SmartLab?, Ultima IV
  • 高功率 θ/θ測(cè)角儀系統(tǒng): TTRAX III